![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
|
В Одессе стартовал конкурс на программу стипендий имени Эдмунда Маски
17:18 / 01.11.2007
ОДЕССА, 01 НОЯБРЯ 2007 ГОДА, КОНТЕКСТ-ПРИЧЕРНОМОРЬЕ — В Одессе стартовал конкурс выпускников высших учебных заведений на программу стипендий им. Эдмунда С. Маски 2008 года, передает корреспондент ИА «Контекст-Причерноморье». Как заявил сегодня, 1 ноября, в ходе заседания Одесского пресс-клуба реформ представитель и консультант Совета международных научных исследований и обменов (IREX) Бентон Висерхарт, «в Украине не хватает профессионалов, соответствующих международным стандартам». Программа дает возможность выпускникам высших учебных заведений и профессионалам из Азербайджана, Белоруссии, Армении, Казахстана, Киргизстана, Молдовы, России, Грузии, Таджикистана, Туркменистана, Украины и Узбекистана обучаться в университетах США в течение 1 года без получения степени или в течение 1-2 лет с получением степени магистра. Все участники программы обучаются по полной университетской программе и должны разработать и выполнить проект, связанный с их профессиональными интересами и направленный на пользу местному обществу. Участники также проходят летнюю стажировку в течение 3 месяцев после окончания первого года обучения. Программа оказывает визовую поддержку, покрывает расходы на проезд участников с мест их проживания в соответствующий университет США, оплату обучения и другие университетские сборы, медицинскую страховку на случай болезни или несчастного случая, ежемесячную стипендию на проживание, ограниченные средства на приобретение учебников, ограниченные средства на профессиональное развитие; курсы английского языка перед началом программы (при необходимости) и широкие возможности контактов с выпускниками программы и различные программы тренингов. Учебные дисциплины, которые предлагает программа стипендий им. Э. Маски для граждан России и Украины: администрирование бизнеса, экономика, право, государственное управление, гражданская политика. «Программа стипендий направлена на улучшение взаимоотношений между Украиной и США. Кроме того, студенты, прошедшие обучение в США, обязаны вернуться в родную страну и отработать там два года, в течение которых они не имеют права подавать на эмиграционную или рабочую визу. Сегодня у участников программы уже есть возможность реализовать себя и в своей стране, потому что появилась работа, соответствующая их уровню», — отметил консультант. Конечный срок подачи аппликационных форм для участия в программе — 16 ноября 2007 года. СПРАВКА: Программа стипендий имени Э. Маски, основана Конгрессом США в 1992 году для способствования экономическому и демократическому развитию стран Евразии, является программой Бюро по делам образования и культуры Государственного департамента США и администрируется Советом международных научных исследований и обменов (IREX). |
Пошук:
![]() Сергій Токарєв
SET University і Tokarev Foundation відкрили стипендію на навчання в Берклі. Ініціатива дозволить будь-якому громадянину України подати заявку та отримати компенсацію 100% вартості дворічної програми. Йдеться про 178 000 доларів. Стипендія покриває лише витрати на навчання, а вступ і підготовку документів кандидат здійснює самостійно. Про це розповів Сергій Токарєв — інвестор і засновник Tokarev Foundation.
![]() В Одеському обласному центрі української культури відкрили виставку образотворчого та декоративно-прикладного мистецтва «Радісний подих», присвячену Дню Української Державності. Експозиція об’єднала роботи митців артгурту «Одеський вулик», які через живопис, графіку, вишивку, витинанку та інші мистецькі техніки відображають красу української культури, духовну силу народу та незламність державотворчих традицій. Виставка триватиме до 14 серпня.
Останні новини:
14:22 01.08.2026
12:34 01.08.2026
12:23 01.08.2026
12:15 01.08.2026
12:08 01.08.2026
|
||||||||||||||||
Свідоцтво Держкомітету інформаційної політики, телебачення та радіомовлення України №119 від 7.12.2004 р.
Використання будь-яких матеріалів сайту можливе лише з посиланням на інформаційне агентство «Контекст-Причорномор'я»
© 2005—2026 S&A design team / 0.013 |